响应面法优化四氯化硅制备超细白炭黑工艺

无机盐工业 ›› 2013, Vol. 45 ›› Issue (2): 27-.

响应面法优化四氯化硅制备超细白炭黑工艺

郑典模¹，周桂明¹，卢钱峰¹，朱实贵²

1.南昌大学环境与化学工程学院，江西南昌 330031；2.赣锋锂业股份有限公司

出版日期:2013-02-10 发布日期:2013-02-21

Optimization of preparation technology of ultrafine silica from silicon tetrachloride by response surface methodology

Zheng Dianmo¹，Zhou Guiming¹，Lu Qianfeng¹，Zhu Shigui²

1.School of Environment and Chemical Engineering，Nanchang 330031，China；2.Jiangxi Ganfeng Lithium Co.，Ltd.

Online:2013-02-10 Published:2013-02-21

摘要/Abstract

摘要： 以四氯化硅和水玻璃为原料，在单因素实验基础上，采用响应面优化工艺并建立数学模型，探讨水玻璃质量分数、添加剂质量分数和反应温度各因素之间相互作用对白炭黑DBP吸收值的影响。确定了最佳工艺条件： w（水玻璃）=8.6%、w（添加剂）=2.7%、水解温度为76 ℃。在此条件下，制得的白炭黑DBP吸收值为2.806 7，与预测值2.801 1仅有0.005 6的误差，证明该模型具有较好的拟合度，能够真实地反映各实验因素对DBP吸收值的影响。

关键词: 四氯化硅, 响应面, 超细白炭黑

Abstract: Based on single-factor experiments，preparation technology of ultrafine silica with silicon tetrachloride and sodium silicate as raw materials was optimized by response surface and mathematic model was established.Influences of the interaction of various factors，such as mass fraction of sodium silicate，mass fraction of additive，and reaction temperature on DBP absorption value of silica were investigated.The optimum conditions were confirmed as follows: the mass fraction of sodium silicate was 8.6%，the mass fraction of additive was 2.7%，and the reaction temperature was 76 ℃.The DBP absorption value of silica was 2.806 7 under the optimum conditions，with the error of 0.005 6 compared with the predict value of 2.801 1.It revealed that the model had better fitting degree，and could reflect the influence of various experimental factors on DBP absorption value.

Key words: silicon tetrachloride, response surface, ultrafine silica

中图分类号:

TQ127.11

郑典模, 周桂明, 卢钱峰, 朱实贵. 响应面法优化四氯化硅制备超细白炭黑工艺[J]. 无机盐工业, 2013, 45(2): 27-.

ZHENG Dian-Mo, ZHOU Gui-Ming, LU Qian-Feng, ZHU Shi-Gui. Optimization of preparation technology of ultrafine silica from silicon tetrachloride by response surface methodology[J]. INORGANICCHEMICALSINDUSTRY, 2013, 45(2): 27-.

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