无机盐工业 ›› 2012, Vol. 44 ›› Issue (1): 19-.
杨保平1,钟小华1,2,张晓亮2,崔锦峰1,贾均红2,易戈文2
Yang Baoping1,Zhong Xiaohua1, 2,Zhang Xiaoliang2,Cui Jinfeng1,Jia Junhong2,Yi Gewen2
摘要: 以四氯化锡和三氯化锑为主要原料,采用溶胶-凝胶法制备了不同锑掺杂量的纳米锑掺杂二氧化锡(ATO)薄膜。分别利用XRD、FESEM、紫外可见分光光度计和四探针电阻仪对晶体结构、薄膜形貌、光透过率和薄膜方块电阻进行表征,考察锑掺杂量对ATO薄膜晶体结构、晶粒尺寸、光透过率和导电性能的影响。结果表明:所制备的ATO薄膜为(110)面择优取向的四方相锡石结构,晶粒尺寸小于26 nm,当锑掺杂量为10%(物质的量分数)时,ATO薄膜具有最小的方块电阻(60.1 Ω/□),可见光透过率大于85%。
中图分类号: